Nova generacija čipova na pomolu: Mašina veličine autobusa mogla bi da promeni proizvodnju elektronike

Holandski tehnološki gigant ASML i nemačka kompanija Karl Cajs predstavili su plan razvoja nove generacije opreme za proizvodnju poluprovodnika, koja bi mogla da omogući izradu još manjih i energetski efikasnijih čipova.

Reč je o tehnologiji nazvanoj Hyper NA, koja predstavlja sledeći korak u razvoju ekstremne ultraljubičaste litografije (EUV). Prema naučnom radu koji su predstavile dve kompanije, nova oprema mogla bi da bude spremna za upotrebu za približno deset godina.

Posebnost ove tehnologije jeste mogućnost izrade izuzetno sitnih struktura na poluprovodničkim čipovima. Cilj je dostizanje dimenzija od oko pet nanometara, što bi proizvođačima omogućilo dodatno povećanje gustine elektronskih komponenti i smanjenje potrošnje energije.

Razvoj nije jednostavan. Današnji najnapredniji litografski sistemi već su veličine dvospratnog autobusa, a zahtevaju izuzetno preciznu optiku. Kompanija Cajs navodi da već poseduje sposobnost proizvodnje ogledala potrebnih za narednu generaciju opreme, dok bi deo postojećih tehnologija mogao ponovo da se koristi.

Iako je ASML započeo razvoj, odluka o serijskoj proizvodnji još nije doneta. Ipak, napredak u litografiji mogao bi da bude važan za buduće računare, mobilne uređaje i centre za obradu podataka, jer sve snažniji procesori istovremeno povećavaju zahteve za električnom energijom.